삼성전자(005930)는 12일 “중국 산시성 시안 반도체 생산시설 착공 1주년을 맞아 5억 달러를 추가 투자키로 결정했다”고 밝혔다. 추가투자는 낸드플래시 메모리반도체 후공정 시설 건립에 사용될 예정이다.
회사 관계자는 “후공정 라인은 현재 건설 중인 생산라인과 인접할 것”이라며 “내년 초에 착공해 연말에 완공할 예정”이라고 설명했다.
이와 함께 현지 우수인력 채용을 통해 소프트웨어 개발 역량을 강화하고 대학과의 공동 연구 등을 통해 사업 협력도 강화한다. 회사 관계자는 “시안은 최근 글로벌 IT업체 중에서 가장 빠르게 성장하고 있는 삼성전자의 R&D 센터를 유치함으로써 지역 소프트웨어 개발 역량 강화와 투자 확대를 기대할 수 있게 됐다.
이외에도 삼성그룹 중국 현지 법인인 중국 삼성은 시안 반도체법인 기공식 1주년을 기념해 산시성과 ‘사회공헌활동(CSR) 시범구‘ 추진 관련 협약식을 체결하고 전방위적인 CSR 협력을 약속했다.
한편 이날 R&D 센터 개소식에는 권오현 삼성저자 부회장, 러우친지엔(婁勤儉) 산시성장, 동쥔(董軍) 시안시장 등 삼성전자 및 정부 관계자들이 참석했다.