반도체 기술 中에 유출…前 삼전 부장, 징역 20년 구형

[이데일리 이재은 기자] 반도체 기술과 엔지니어들을 중국에 유출한 전직 삼성전자 부장에게 중형이 구형됐다.

(사진=방인권 기자)

13일 법조계에 따르면 서울중앙지법 형사합의25부(재판장 지귀연)는 전날 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 전 삼성전자 기술팀 부장 A(56)씨 등 5명에 대한 결심공판을 진행했다.

검찰은 이날 A씨에게 징역 20년을 구형하고 협력업체 전직 직원 등 다른 피고인들에게는 징역 2~10년을 선고해 달라고 재판부에 요청했다.

검찰은 “기술유출 범죄는 국가와 피해 기업의 기술적 기반을 흔들 수 있는 중대 범죄”라며 “제2, 제3의 범죄가 발생하지 않도록 엄정한 법 집행을 통해 경종을 울려야 한다”고 밝혔다.

A씨는 최종진술에서 “중국 CXMT(창신메모리테크놀로지)의 모든 자료는 CXMT 경영층과 박사급들이 만들어내는 자료로 제가 만들 수 있는 자료는 일부에 불과하다”며 “물의가 발생한 데 대해 진심으로 사죄한다”고 말했다.

A씨 등에 대한 선고는 내달 22일 진행된다.

A씨 등은 국가 핵심 기술인 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단으로 유출해 CXMT가 제품 개발에 사용하게 한 혐의로 지난 1월 구속기소됐다.

B씨는 A씨와 공모해 반도체 장비를 납품하는 회사의 설계기술자료를 CXMT에 넘긴 혐의로 재판에 넘겨졌다.

검찰은 A씨가 중국에 반도체 장비업체인 C 법인을 세우고 삼성전자 재직 당시부터 반도체 증착장비 설계기술자료 등을 몰래 서버에 전송하는 등 수법으로 개발비용이 736억원에 달하는 기술자료를 빼돌린 것으로 보고 있다.