서울대 반도체연구소, 엘오티베큠 고진공 펌프 기증받아

[이데일리 김현아 기자] 서울대학교 반도체공동연구소가 반도체 진공장비 전문기업 엘오티베큠(LOT Vacuum)으로부터 고진공 스크루 펌프 ‘HD1200’ 2대를 기증받고, 공정 장비 성능 고도화에 나선다.

이번에 기증된 HD1200 펌프는 10?³ Torr(10?¹ Pa) 수준의 고진공을 빠르고 안정적으로 형성·유지할 수 있는 장비로, 금속 스퍼터링(Sputtering)과 원자층증착(Atomic Layer Deposition·ALD) 공정에 필수적인 배기 계통의 핵심 구성 요소다.

(왼쪽부터) 서울대학교 반도체공동연구소 김재하 운영부장, 엘오티베큠 박현기 상무, 서울대학교 반도체공동연구소 이혁재 소장, 엘오티베큠 오흥식 회장, 이종호 전 과학기술정보통신부 장관(서울대학교 전기정보공학부 교수), 엘오티베큠 조대식 사장

서울대 반도체공동연구소는 이번 장비 도입을 계기로 공정 장비의 진공 품질을 대폭 향상시켜 미세 금속막의 재현성과 실험 데이터의 신뢰도를 높일 수 있을 것으로 기대하고 있다.

기증식은 최근 서울대에서 열렸으며, 이혁재 반도체공동연구소장을 비롯해 김재하 연구부장, 이종호 전 과학기술정보통신부 장관(現 서울대 교수), 박순오 장비운영실장과 엘오티베큠의 오흥식 회장, 조대식 사장, 박현기 상무 등이 참석해 산학협력의 의미를 되새겼다.

울대학교 반도체공동연구소가 엘오티베큠(LOT Vacuum)으로부터 기증받은 고진공 스크루 펌프 ‘HD1200’

이혁재 소장은 “HD1200 도입으로 장비의 베이스 압력 안정성이 획기적으로 향상될 것”이라며 “향후 연구소 내 공정 장비의 진공 품질을 전반적으로 끌어올려 교육 및 연구 인프라를 고도화하겠다”고 밝혔다.

오흥식 엘오티베큠 회장도 “진공 펌프는 반도체 공정 장비의 핵심 요소”라며 “엘오티베큠은 앞으로도 고진공 기술을 기반으로 학계와 산업계가 함께 성장하는 상생 모델을 지속적으로 추진할 것”이라고 말했다.

서울대 반도체공동연구소는 이번 기증을 통해 국내 반도체 공정 연구 경쟁력을 강화하는 한편, 산학 협력을 바탕으로 실무 중심의 교육환경을 조성해 차세대 반도체 인재 양성에 기여한다는 방침이다.

2002년 설립된 엘오티베큠은 건식 스크루 펌프, 터보 분자 펌프 등 고진공 솔루션을 독자 기술로 상용화해 국내 주요 반도체 및 디스플레이 생산라인에 공급해 왔으며, 최근에는 에너지 효율을 개선한 신제품 개발과 함께 대학·연구기관 대상 장비 기증 및 기술 지원 프로그램을 지속적으로 확대하고 있다.