18일 업계에 따르면 SK하이닉스는 경기도 이천 공장 생산시설 신규 건립에 15조 원 투자를 검토하고 있다.
SK하이닉스 관계자는 “자사 D램 반도체 생산의 50%를 책임지고 있는 이천 공장의 지속적인 생산을 위해선 새 생산설비가 필요한 시점”이라며 “구체적인 투자규모와 기간을 조만간 결정할 예정”이라고 말했다.
이천 M10 공장은 지난 1994년 건립돼 200mm 웨이퍼를 생산하다가 공장 일부 개선작업을 거쳐 2005년부터 300mm 웨이퍼를 생산하고 있다.
하지만 시설이 오래돼 노화되다보니 신규 건립 수준의 증설이 절실한 상황이었다. 업계 관계자는 “사실상 삼성전자, SK하이닉스, 마이크론 진영(마이크론+엘피다) 등 3강 체제로 재편된 메모리 반도체 시장에서 이천 생산시설이 가장 낙후됐다”고 말했다.
이에 따라 SK하이닉스는 사상 최대실적을 경신하는 추세를 이어가고 당분간 이어질 메모리 반도체 호황 효과를 누리기 위해서는 투자가 절실한 상황이다.
삼성전자는 D램보다는 낸드플래시와 시스템반도체 투자를 강화할 예정이다. 이는 삼성전자가 중국 시안에 대규모 낸드플래시 생산 설비를 짓고 있고, 종합반도체 회사로 발돋움하기 위해서는 시스템 반도체 사업도 소홀히 할 수 없기 때문이다.
업계 관계자는 “D램의 경우 2015~2016년을 기점으로 상승세가 꺾일 것으로 보이지만 낸드플래시 시장은 지속적으로 확대될 것으로 보여 투자확대가 이뤄지는 것”이라고 설명했다.
시장조사기관 가트너에 따르면 전 세계 낸드플래시 시장규모는 올해 292억4500만 달러(30조7423억 원)를 기록한 뒤 326억6040만달러(2014년)→354억430만 달러(2015년)→401억1760만 달러(2016년)가 될 것으로 예상했다.
삼성전자는 내년부터 중국 시안에 건립 중인 낸드플래시 생산 공장과 경기도 화성에 건설 중인 시스템반도체 생산시설(17라인)이 완공되면 설비투자를 본격화하면서 올해 다소 주춤했던 반도체 투자가 다시 활기를 나타낼 것으로 보인다.
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삼성전자 관계자는 이와 관련 “올해도 계획대로 투자는 진행되고 있지만 지난해보다 투자규모가 줄어들 것으로 보인다”며 “내년 투자계획도 아직 확정되지 않았다”고 전했다. 다만 지난 10월 열린 국제반도체장비재료협회(SEMI) 행사의 날에서 크리스티안 뒤셀도르프 수석 연구원은 삼성전자가 내년에 115억~125억 달러(12조888억~13조1400억원)를 반도체 분야에 투자할 것으로 전망했다.
하지만 불투명한 시황 전망이 오히려 투자를 촉진하게 하는 이유라는 주장도 나오고 있다. 업계 한 관계자는 “시황이 불투명하기 때문에 호황기를 대비해 미리 투자하는 경우도 있다”며 “수요가 급증했을 때 생산설비가 갖춰지지 못하면 경쟁사에 추월당할 수 있기 때문”이라고 설명했다.
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