“EUV 장비, 7나노급 공정 시점 맞춰 도입”-삼성전자 컨콜

  • 등록 2016-07-28 오전 10:43:35

    수정 2016-07-28 오전 10:43:35

[이데일리 정병묵 기자] △반도체 10나노 이하급 공정 제품에 대한 로드맵이 타사와 좀 다르다. 10나노급은 당분간 가장 효과적이고 상용화에 적합하다. 7나노급은 언제든 시제품은 내놓을 준비가 돼 있다. 문제는 상용화 시기인데 이는 비용이 최적화되는 시기. 극자외선(EUV) 노광장비는 7나노 도입 시점과 맞춰서 할 계획.

..28일 삼성전자(005930) 2분기 실적발표 컨퍼런스콜.



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