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29일 삼성전자는 10나노 2세대 핀펫 공정(10LPP, 10nm Low Power Plus) 기반 시스템온칩(SoC) 제품 양산을 시작한다고 밝혔다. 시스템온칩은 칩 안에 시스템 회로가 들어간 제품으로, 대개 AP를 의미한다.
10나노 2세대 공정은 기존 1세대 공정(10LPE, 10nm Low Power Early) 대비 성능과 전력 효율이 각각 10%, 15% 높였다. 동시에 이미 양산 중인 1세대 공정을 기반으로 개선한 것이기 때문에 초기 불량 문제도 상당 부분 해소할 수 있어 제품 개발부터 양산까지 걸리는 시간(TAT, turn-around time)을 줄이고 초기 수율(전체 생산품 중 정상품 비율) 확보에도 용이하다는 설명이다. 삼성전자 관계자는 “1세대 공정을 바탕으로 하면서 전반적인 트랜지스터 구조 최적화를 통해 효율을 높였다”고 설명했다.
한편 삼성전자는 10나노 공정은 물론 7나노 핀펫 공정 등 차세대 미세공정 제품 양산을 맡을 S3생산라인의 공정 양산 준비를 마쳤다고 밝혔다. 경기도 화성캠퍼스에 위치한 S3라인은 기흥캠퍼스의 S1, 미국 오스틴의 S2 라인에 이은 세번째 파운드리(반도체 수탁생산) 공장으로, 최신 기술인 극자외선(EUV) 기술을 처음 적용한다. 이를 통해 현재 대세인 10나노 공정과 차세대 공정에서 모두 주도권을 놓치지 않겠다는 포석으로 풀이된다.